Резиденты особой экономической зоны «Технополис Москва» и учёные Национального исследовательского университета «МИЭТ» проводят исследования для создания установки, которая позволит печатать микросхемы размером от 28 нанометров и ниже, востребованным в современной микроэлектронике.
Производственные мощности для образцов
«Научные работы по проекту проходят на базе НИУ МИЭТ при участии Зеленоградской компании – резидента столичного технополиса. Резиденты ОЭЗ Москвы участвуют в проекте по созданию технологии и разработке установки-литографа – уникального оборудования для производства микросхем. Производственные мощности кластера микроэлектроники столичной ОЭЗ будут задействованы для изготовления необходимых проекту образцов», – рассказал руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики, входящего в Комплекс экономической политики и имущественно-земельных отношений столицы Владислав Овчинский.
Условие для опытно-конструкторского проекта
Установка сможет использоваться для производства чипов топологических размеров от 28 нанометров и ниже на базе российских синхротронов и плазменных источников излучения. Ученые МИЭТ в кооперации с резидентами ОЭЗ Москвы сегодня изучают возможность реализации технологии.
По словам проректора по научной работе МИЭТ Сергея Гаврилова, если эта работа завершится успешно, за ней последует опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки.
Кооперация усилит компетенции
«Резиденты ОЭЗ Москвы вносят значительный вклад в отечественную инноватику и микроэлектронную промышленность. Так, Зеленоградская компания уже вложила в проект более 300 миллионов рублей. Очередной шаг в этом направлении – участие в создании уникального литографа для печати чипов. Эта работа в кооперации с университетом МИЭТ позволит усилить компетенции и является важным шагом технологического развития для микроэлектроники России», – уточнил генеральный директор ОЭЗ «Технополис Москва» Геннадий Дёгтев.
